在真空離子鍍 過程中，鍍材原子被電離成帶電離子，它們將沿電場電力線的方向運動，所以凡是分布有電力線的地方，都是離子所及之處。另外電鍍廠在射向工件的過程中無可避免地會與尚未電離的鍍材蒸氣原子、電子發生激烈碰撞，這將使離子產生非定向的散射。所以在髙壓直流電場中處於陰極地位的工件，無論是麵向處於陽極地位的蒸發源的表麵，還是背麵;也無論是裸露的表麵，還是孔和凹槽，離子鍍都能鍍上。

真空離子對鍍麵的轟擊所產生的濺射效應對鍍麵有淨化作用，它清除了吸附在鍍麵上的氣膜和汙物，而且這種淨化作用伴隨離子鍍過程的始終。離子的轟擊作用還會產生“反派射”，基體表麵上有部分原子被濺射下來並電離，而後又隨其他離子返回鍍件表麵，這就可能在香蕉精品视频與基體表麵之間的膜基麵上形成過渡層或鍍材成分與基材成分的混合層。另外，在真空離子鍍 過程中濺射效應還能將與基體表麵或與已鍍層附著不牢的鍍材原子再轟擊下來。離子轟擊還能使整體表麵出現一些晶體缺陷，使鍍材原子的機械嵌入成為可能。電鍍廠將這些所有有作用的都有利於香蕉精品视频與基體間結合強度的提高。