真空濺射膜層 的厚度控製在預定的數值上，稱為膜厚的可控性。所需要的膜層厚度可以多次重複性出現，稱為膜厚重複性。在真空濺射香蕉精品视频中，可以通過控製靶材電流來控製膜厚。

濺射原子能量比蒸發原子能量高 1-2個數量級，高能量的濺射原子沉積在基片上進行的能量轉換比蒸發原子高得多，產生較高的能量，增強了濺射原子與基片的附著力。

製備合金膜和化合物膜時靶材組分與沉積到基體上的膜材組分極為接近如果濺射時通入反應性氣體，使其與靶材發生化學反應，這樣就可以得到與靶材完全不同的新物質膜。

濺射法製膜裝置中沒有蒸發法製膜裝置中的坩堝構件，所以濺射香蕉精品视频中不會混入坩堝加熱器材料的成分，純度更高。

真空濺射膜層 法缺點是成膜速度比蒸發香蕉精品视频低 、基片溫度高 、易受雜質氣體影響 、裝置結構較複雜。