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第一類，真空蒸發香蕉精品视频，是在真空條件下，用蒸發器加熱蒸發物質使之汽化，蒸發粒子流直接射向基片並在基片上沉積形成固態薄膜的技術。包括熱蒸發和EB蒸，熱蒸發是在真空狀況下，將所要蒸鍍的材料利用電阻加熱達到熔化溫度，使原子蒸發，到達並附著在基板表麵上的一種香蕉精品视频技術；熱蒸發是在真空狀況下，將所要蒸鍍的材料利用電阻加熱達到熔化溫度，使原子蒸發，到達並附著在基板表麵上的一種香蕉精品视频技術。

第二類，磁控濺射，給靶材施加高電壓（形成等離子狀態），使正荷電氣體離子撞擊靶材、金屬原子飛彈，而在樣品表麵形成金屬皮膜的方法。

第三類，真空離子香蕉精品视频，是真空蒸發和真空濺射香蕉精品视频結合的一種香蕉精品视频技術。

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