隨著社會的發展，市場對金屬件有了更多的要求，PVD香蕉精品视频行業也得到迅速發展。但是由於要製備PVD膜層的基體表麵並非完全均勻平整，而且PVD膜層的生長從初始的形核直至膜層的生長均是以一種非連續均勻、一致的方式。PVD膜層的柱狀生長機製使得在生長後期遺留了空隙，形成膜層的各種結構缺陷。因此，PVD膜層的微孔等結構缺陷的形成幾乎是不可避免的，隻能通過各種技術來降低缺陷的數量和尺寸。

PVD膜層缺陷的數量以及大小取決於PVD的工藝類型、沉積狀態，尤其是基體溫度和沉積偏壓。同時，基體的表麵質量諸如表麵粗糙度、缺陷等也與表麵膜層的缺陷密不可分。PVD技術無法克服因表麵粗糙度高引起的陰影效應，從而使得製備的膜層受基體本身的影響較大，均勻性不好，致密性也很差，因此製備膜層的基體表麵必須盡可能平整、光滑。另外，摻雜原子的添加也可優化塗層的顯微組織結構，提高耐蝕性;高的沉積偏壓使得到達基體表麵的沉積原子的能量增大，導致形核條件的改變。另外高能粒子的轟擊更能使得形成的膜層更加致密，進一步消除前期膜層中形成的缺陷，從而降低PVD膜層的空隙率，提高其耐蝕性能。

消除PVD膜層表麵缺陷的另外一類技術就是沉積多層複合膜，通過複合膜層的匹配增加膜層厚度，消除通孔等結構缺陷。這一類體係的PVD膜層有金屬氮化物/金屬以及金屬氮化物複合體係等。通過工藝調整以及膜層的匹配性選擇，便能取得比單一PVD膜層體係更好的耐腐蝕性能。