PVD真空香蕉精品视频 由於原理的不同分為很多種類，其過程也非常複雜，但因為有一個共同點——都需要高真空度，而擁有統一名稱。所以不同的工藝原理，影響均勻性的因素也不盡相同。且均勻性本身也會隨著香蕉精品视频尺度和香蕉精品视频成分不同而不同。薄膜均勻性可簡單分為以下幾類：

厚度上的均勻性：也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上看(也就是1/10波長作為單位，約為100A)，真空香蕉精品视频的均勻性已經相當好，可以輕鬆將粗糙度控製在可見光波長的1/10範圍內，也就是說對於薄膜的光學特性來說，真空香蕉精品视频完全不影響原材質的性能。但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現10A甚至1A的表麵平整，是現在真空香蕉精品视频中主要的技術含量與技術瓶頸所在。

化學組成上的均勻性：就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由於尺度過小而很容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果香蕉精品视频過程沒有嚴格按照正確的比例，那麽實際表麵的組分就並不是SiTiO3，而可能是其他的比例，因此鍍的膜並非是想要的膜的化學成分，這也是真空香蕉精品视频的技術含量所在。

晶格有序度的均勻性：這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空香蕉精品视频技術中的熱點問題。

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