先說下真空香蕉精品视频 和光學香蕉精品视频在香蕉精品视频概念的區別：

1、真空香蕉精品视频是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發並凝結於鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表麵而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鈦、真空鍍鉻等。

2、光學香蕉精品视频是指在光學零件表麵上鍍上一層（或多層）金屬（或介質）薄膜的工藝過程。在光學零件表麵香蕉精品视频的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的香蕉精品视频法有真空香蕉精品视频（物理香蕉精品视频的一種）和化學香蕉精品视频。

真空香蕉精品视频 和光學香蕉精品视频膜厚的區別：真空香蕉精品视频一般金屬材料電鍍出來的膜厚度大概是3-5微米。光學香蕉精品视频的膜厚測試可以在香蕉精品视频機的中間頂上裝置膜厚測試儀即可。早期使用的是光控測試，現在一般用晶振片，使用的是晶振片震動的頻率來測試香蕉精品视频的厚度。不同膜層的厚度不同。