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間電真空電鍍廠鍍層設計考慮因素有哪些
來源: | 發布日期:2021-11-20

今天在一問答平台中看到有人問間電真空電鍍廠鍍層設計考慮因素有哪些?今天小編我就和大家一起聊一下這個專業的問題。

從大的方麵來講,間電真空電鍍廠家要考慮的第一要素就是來料的材質,因為涉及到退鍍工藝,因為有些材質無法進行退鍍,比如鋅合金、鋁合金等,像不鏽鋼基材就是間電真空香蕉精品视频廠家比較喜歡的常規材質;其次要考慮的是產品的結構,特別複雜的結構對於間電真空香蕉精品视频廠家來說,生產的難度比較大,一般要先試樣,客戶確認可以生產後再進一步談量產事宜。

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除了以上考慮的因素外,在鍍層設計方麵,間電真空電鍍廠家還需要考慮以下幾點因素:1)選擇熱膨脹係數與基材比較接近的金屬,比如Ti或者Cr作為種子層,增加與基材的結合力。2)縮小鍍層之間的硬度差異,過大的硬度差異會加大膜層應力導致附著力問題,比如用WC層承接DLC層,因為WC層的硬度也比較高。3)設計連續梯度膜層,銜接不同種類之間的鍍層,比如碳化物或者氮化物膜層,通過連續的加氣來實現金屬與化合物之間的好的銜接。

總之,好的膜層設計是香蕉精品视频成功與否的關鍵因素,無論是對全電還是間電香蕉精品视频都是非常重要的。對於間電真空電鍍廠而言,因為工序更加複雜,所以要考慮的因素更多一些。如果有更細節的問題需要谘詢,歡迎來電交流:18018743855

【本文標簽】 間電真空電鍍廠

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